半导体

日本光刻胶巨头在美国面临专利侵权诉讼

纽约州立大学研究基金会称,日本捷时雅的美国子公司Inpria销售的金属氧化物光刻胶,最初是由该基金会一名教授及其团队发明的。

一项可能改变芯片制造未来的技术,在纽约州立大学(State University of New York)与一家将由日本政府支持的基金拥有的公司之间引爆了一场价值数十亿美元的专利大战。

根据上周呈递的法庭文件,纽约州立大学研究基金会声称,日本捷时雅(JSR)的美国子公司Inpria一直在销售基于该校一名教授发明的技术的芯片材料产品。它可能会以涉嫌侵犯其知识产权为由,寻求最高43亿美元的损害赔偿金。

这场法律战爆发之际,捷时雅正寻求被一只国家支持的基金收购,这笔有争议的交易令人质疑:日本是否正在进入一个国家干预主义新时代,目的是保护具有战略重要性的技术?

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